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              企業(yè)動態(tài)

              對于脈沖電源的這些基本信息我們一定要了解清楚
              更新時間:2021-03-24   點擊次數(shù):2439次
                脈沖電源技術(shù)主要包括儲能技術(shù),能量轉(zhuǎn)換和功率放大,大功率開關(guān)技術(shù),高壓絕緣技術(shù)和控制技術(shù),這是一門新興的交叉學(xué)科。受控核聚變設(shè)備中使用的脈沖電源使用脈沖發(fā)生器技術(shù)來實現(xiàn)能量存儲,轉(zhuǎn)換和功率放大,然后通過電力電子技術(shù)進(jìn)行電能轉(zhuǎn)換,并通過現(xiàn)代控制技術(shù)來實現(xiàn)設(shè)備所需的電流波形控制線圈產(chǎn)生物理物理研究所要求的等離子體約束磁場。
               

              脈沖電源

                脈沖電源具有單正脈沖和雙正負(fù)脈沖電源,采用*的調(diào)制技術(shù)和數(shù)字控制。可以在整個周期內(nèi)分別調(diào)整正脈沖開啟寬度(T+)和負(fù)脈沖開啟時間寬度(T-)。正電流,電壓調(diào)節(jié),負(fù)電流和電壓可獨立調(diào)節(jié)。可以在整個周期內(nèi)分別調(diào)整正脈沖開啟寬度(T+)和負(fù)脈沖開啟時間寬度(T-)。正電流,電壓調(diào)節(jié),負(fù)電流和電壓可獨立調(diào)節(jié),可以滿足客戶的不同需求。適用于鍍金,鍍銀,鍍鎳,鍍錫等,可顯著提高鍍膜性能。
                脈沖電源技術(shù)的基本工作原理:在脈沖電鍍過程中,打開電流時,脈沖(峰值)電流相當(dāng)于普通直流電流的幾倍甚至幾十倍,準(zhǔn)確地說是瞬時高電流密度。金屬離子在非常高的超電勢下被還原,因此沉積層的晶粒變得更細(xì)。當(dāng)電流關(guān)閉時,陰極附近的放電離子恢復(fù)到初始濃度,消除了濃度極化,這對下一個脈沖是有利的。繼續(xù)使用高脈沖(峰值)電流密度,并且在關(guān)閉期間,還會出現(xiàn)諸如重結(jié)晶,吸附和解吸等對沉積層有利的現(xiàn)象。這樣的過程同時貫穿整個電鍍過程的開始和結(jié)束,并且其中包含的機制構(gòu)成了脈沖電鍍的基本原理。實踐證明,脈沖電源在提純結(jié)晶,改善涂層的物理和化學(xué)性能以及節(jié)省貴金屬方面,與傳統(tǒng)的直流電鍍相比具有優(yōu)勢。首先,通過緩慢的能量存儲,一次能量具有足夠的能量。然后對中間的能量存儲和脈沖整形系統(tǒng)進(jìn)行充電(或能量流入),然后將能量存儲,壓縮,脈沖化或轉(zhuǎn)換以及其他復(fù)雜過程,然后迅速釋放給負(fù)載。

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